Brasil. En la Abrafati 2017, Wacker presentó los más diversos productos a base de polímeros y siliconas para las industrias de pinturas y revestimientos, adhesivos y materiales gráficos de la región.
Entre otros, la empresa mostró la dispersión Primis® SAF 9000 y la silicona Silres® BS 710 para eliminar fácilmente los rayones de superficies. Además de la dispersión Vinnapas® EF 575 para masas de calafate y sellado, el grupo también presenta la dispersión Vinnapas® EP 3360 para la formulación de tintas para interior de bajísimo olor, así como la resina Vinnol® E 18/38 para huella digital. Paralelamente, Wacker está lanzando tres aplicaciones de ligantes y dos nuevos productos de silicona para revestimientos industriales en el mercado sudamericano.
Superficies resistentes a la suciedad, fáciles de limpiar y cuidar
Un destaque especial en Abrafati de este año son las nuevas soluciones de Wacker para tratar las superficies para aumentar su resistencia a la suciedad. Debido a su composición especial, la dispersión Primis® SAF 9000 es a la vez oleofóbica e hidrofóbica, protegiendo la película de tinta de las más diversas manchas - de café a lápiz de color, pasando por vino tinto. La adición de 10 a 20% de la dispersión en relación al ligante principal permite que la suciedad pueda ser removida de la pared con una esponja común.
La nueva silicona Silres® BS 710 es un elastómero de silicona que tiene su curación a temperatura ambiente y con exposición a la humedad. Gracias a la película de silicona permanentemente elástica, los rayones se pueden quitar fácilmente con agua y adhesivos. Una ventaja interesante: el producto no contiene ni catalizadores base estaño ni oximas, y su formulación sólo requiere muy poco disolvente.
Las dispersiones Vinnapas® EP 3360 a base de acetato de vinilo-etileno (VAE) se indican para pinturas mate a semi-brillo, con elevada resistencia a la abrasión y mejor poder de cobertura que los sistemas convencionales, de base acrílica, la misma concentración volumétrica de pigmentos (PVC). El producto posee además un contenido de monómero residual muy bajo (<200 ppm) así como un contenido de formaldehído muy bajo (<20 ppm) y no necesita disolventes orgánicos o coalescentes para la formación de película.
