Internacional. Los científicos informan un proceso atmosférico fácil para fabricar recubrimientos porosos de índice de refracción ultrabajo con nanoestructuras huecas de sílice de aspecto similar a la mora.
En la actualidad, los intensos esfuerzos de investigación se dirigen al desarrollo de nuevos revestimientos de alta calidad con índice de refracción ultra bajo. Los revestimientos se fabricaron mediante un método de sol-gel catalizado por una base en un solo paso utilizando 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctiltrimetoxisilano (POTS) y ortosilicato de tetraetilo (TEOS) como coprecursores.
Los recubrimientos de índice de refracción ultra bajo podrían obtenerse sin ningún pretratamiento (como el grabado con HF en los sustratos de vidrio) o postratamiento (como la calcinación para retirar la plantilla), por lo que es adecuado para el procesamiento en grandes áreas.
En comparación con los métodos anteriores, el procedimiento de esta técnica es más simple y más respetuoso con el medio ambiente. Los índices de refracción de los recubrimientos podrían ajustarse de 1.08 a 1.17. Se investigó el efecto de las cantidades de POTS sobre el índice de refracción de los recubrimientos.
Específicamente, se propuso un posible mecanismo de crecimiento de partículas de los sueros de nanopartículas de sílice huecas que contienen flúor (FHSN). Además, las propiedades repelentes al agua también fueron investigadas. Los revestimientos de índice de refracción ultra bajo con microestructuras de sílice porosa tienen las ventajas de una porosidad abundante, por lo tanto, prometen encontrar aplicaciones potenciales en materiales almacenados en energía y en medio poroso.
Fuente: www.sciencedirect.com
